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Inter-reticle stitching rules and constraints for a wafer-scale integrated circuit

Savaria, Yvon et Blaquière, Yves et André, Walder. 2011. « Inter-reticle stitching rules and constraints for a wafer-scale integrated circuit ». Coll. « Application Note », vol. CMC-00200-01762. CMC Microsystems.

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Type de document: Rapport technique (NON SPÉCIFIÉ)
Professeur:
Professeur
Blaquière, Yves
Affiliation: Autres
Date de dépôt: 22 févr. 2017 20:11
Dernière modification: 22 févr. 2017 20:11
URI: http://espace2.etsmtl.ca/id/eprint/14700

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