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Freestanding nanostructures via reactive ion beam angled etching

Atikian, Haig A. et Latawiec, Pawel et Burek, Michael J. et Sohn, Young-Ik et Meesala, Srujan et Gravel, Normand et Kouki, Ammar B. et Lončar, Marko. 2017. « Freestanding nanostructures via reactive ion beam angled etching ». APL Photonics, vol. 2, nº 5.

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Kouki A. 2017 15255 Freestanding nanostructures via reactive.pdf - Version publiée
Licence d'utilisation : Creative Commons CC BY.

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Résumé

Freestanding nanostructures play an important role in optical and mechanical devices for classical and quantum applications. Here, we use reactive ion beam angled etching to fabricate optical resonators in bulk polycrystalline and single crystal diamond. Reported quality factors are approximately 30 000 and 286 000, respectively. The devices show uniformity across 25 mm samples, a significant improvement over comparable techniques yielding freestanding nanostructures.

Type de document: Article publié dans une revue, révisé par les pairs
Informations complémentaires: Identifiant de l'article: 051301
Professeur:
Professeur
Kouki, Ammar B.
Affiliation: Génie électrique
Date de dépôt: 15 mai 2017 19:15
Dernière modification: 15 mai 2017 19:31
URI: http://espace2.etsmtl.ca/id/eprint/15255

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