Inter-reticle stitching rules and constraints for a wafer-scale integrated circuit

Savaria, Yvon, Blaquière, Yves et André, Walder. 2011. « Inter-reticle stitching rules and constraints for a wafer-scale integrated circuit ». Coll. « Application Note », vol. CMC-00200-01762. CMC Microsystems.

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URL Officielle: https://www.cmc.ca/en/WhatWeOffer/Products/CMC-002...

Type de document:	Rapport technique (NON SPÉCIFIÉ)
Professeur:	Professeur Blaquière, Yves
Affiliation:	Autres
Date de dépôt:	22 févr. 2017 20:11
Dernière modification:	22 févr. 2017 20:11
URI:	https://espace2.etsmtl.ca/id/eprint/14700

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