Shih, Andy, Zhou, Wendi, Qiu, Julia, Yang, Han-Jen, Chen, Shuyi, Mi, Zetian et Shih, Ishiang.
2010.
« Highly stable resistive switching on monocrystalline ZnO ».
Nanotechnology, vol. 21, nº 12.
Compte des citations dans Scopus : 58.
Rechercher dans Google Scholar
URL Officielle: https://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/21/12/125201
Type de document: | Article publié dans une revue, révisé par les pairs |
---|---|
Professeur: | Professeur Shih, Andy |
Affiliation: | Autres |
Date de dépôt: | 01 oct. 2021 19:38 |
Dernière modification: | 01 oct. 2021 19:38 |
URI: | https://espace2.etsmtl.ca/id/eprint/23235 |
Actions (Authentification requise)
Dernière vérification avant le dépôt |