Ar/Cl2 etching of GaAs optomechanical microdisks fabricated with positive electroresist

Benevides, Rodrigo, Ménard, Michaël, Wiederhecker, Gustavo S. et Alegre, Thiago P. Mayer. 2020. « Ar/Cl2 etching of GaAs optomechanical microdisks fabricated with positive electroresist ». Optical Materials Express, vol. 10, nº 1. pp. 57-67.
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URL Officielle: https://doi.org/10.1364/OME.10.000057

Type de document:	Article publié dans une revue, révisé par les pairs
Professeur:	Professeur Ménard, Michaël
Affiliation:	Autres
Date de dépôt:	16 août 2023 18:28
Dernière modification:	16 août 2023 18:28
URI:	https://espace2.etsmtl.ca/id/eprint/27357

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