TEOS-PECVD films for high-quality SiO2 cladding layers in Si3N4-photonics with low mechanical stress and optical loss

Mehrvar, Leila, Drogoff, Boris Le, Menard, Michael et Chaker, Mohamed. 2024. « TEOS-PECVD films for high-quality SiO2 cladding layers in Si3N4-photonics with low mechanical stress and optical loss ». In Photonics North (PN) (Vancouver, BC, Canada, May 28-30, 2024) Institute of electrical and Electonics Engineers Inc..

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URL Officielle: https://doi.org/10.1109/PN62551.2024.10621767

Type de document:	Compte rendu de conférence
ISBN:	2693-8316
Professeur:	Professeur Ménard, Michaël
Affiliation:	Génie électrique
Date de dépôt:	10 sept. 2025 15:03
Dernière modification:	10 sept. 2025 15:03
URI:	https://espace2.etsmtl.ca/id/eprint/31763

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